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產(chǎn)品分類PRODUCT CLASSIFICATION

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產(chǎn)品詳細(xì)頁

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

簡要描述:OPTM 系列顯微分光膜厚儀使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過絕對反射率進(jìn)行測量,可進(jìn)行高精度膜厚度/光學(xué)常數(shù)分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學(xué)材料和多層膜。 測量時間上,能達(dá)到1秒/點(diǎn)的高速測量,并且搭載了即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學(xué)常數(shù)的軟件。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-11-08
  • 訪  問  量:310

產(chǎn)品介紹

品牌OTSUKA/日本大冢應(yīng)用領(lǐng)域綜合

產(chǎn)品特色


● 非接觸、非破壞式,量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對反射率,可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

● 單點(diǎn)對焦加量測在1秒內(nèi)完成

● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外 ~ 近紅外)

● 獨(dú)立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對應(yīng)spot約3μm

● 可針對超薄膜解析nk

量測項(xiàng)目

●絕對反射率分析

●多層膜解析(50層)

●光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內(nèi)部反射的影響,無法正確測量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內(nèi)部反射,即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測量。此外,對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品,也可不受其影響,單獨(dú)測量上面的膜。

(zhuanli編號    第 5172203 號)
OPTM 系列顯微分光膜厚儀

應(yīng)用范圍

● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體:硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD:LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)

● 資料儲存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料:濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器:液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它:建筑用材料、膠水、DLC等

規(guī)格式樣

(自動XY平臺型)


                OPTM-A1                OPTM-A2                OPTM-A3
波長范圍                230 ~ 800 nm                360 ~ 1100 nm                900 ~ 1600 nm
膜厚范圍                1nm ~ 35μm                7nm ~ 49μm                16nm ~ 92μm
測定時間                1秒 / 1點(diǎn)以內(nèi)
光徑大小                10μm (最小約3μm)
感光元件                CCD                InGaAs
光源規(guī)格                氘燈+鹵素?zé)?/td>鹵素?zé)?/td>
尺寸                556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分)
重量                66kg(自動XY平臺型的主體部分)

OPTM 選型

OPTM 系列顯微分光膜厚儀自動XY平臺型

OPTM 系列顯微分光膜厚儀固定框架型

OPTM 系列顯微分光膜厚儀嵌入頭型

波長與膜厚范圍

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

選型表

波長范圍自動XY平臺型固定框架型嵌入頭型
230 ~ 800nmOPTM-A1OPTM-F1OPTM-H1
360 ~ 1,100nmOPTM-A2OPTM-F2OPTM-H2
900 ~ 1,600nmOPTM-A3OPTM-F3OPTM-H3

 

物鏡

 

      類型倍率測量光斑視野范圍
  反射對物型10x lensΦ 20μmΦ 800μm
20x lensΦ 10μmΦ 400μm
40x lensΦ 5μmΦ 200μm
可視折射型5x lensΦ 40μmΦ 1,600μm

量測案例

半導(dǎo)體行業(yè) – SiO2、SiN膜厚測定案例

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

半導(dǎo)體工藝中,SiO2用作絕緣膜,而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜,或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護(hù),之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時,為了精確的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。

FPD行業(yè) – 彩色光阻膜厚測定

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

彩色濾光片薄膜的制程中,一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面,通過光刻進(jìn)行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因,因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。

FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造

ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料,制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時,氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化,使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。

對這樣的ITO用傾斜模式,由上部界面和下部界面的nk值,對傾斜程度進(jìn)行測量。

半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚

如果基板表面非鏡面且粗糙度大,則由于散射,測量光降低且測量的反射率低于實(shí)際值。

通過使用界面系數(shù),因?yàn)榭紤]到了基板表面上的反射率的降低,可以測量出基板上薄膜的膜厚值。

DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量

OPTM 系列顯微分光膜厚儀

DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征,被廣泛用于各種用途。

采用顯微光學(xué)系統(tǒng),可以測量有形狀的樣品。此外,監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式,可以用于分析異常原因。


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